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電影院膠卷染料均質(zhì)機

簡要描述:電影院膠卷染料均質(zhì)機GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-20
  • 訪  問  量:528
詳情介紹

電影院膠卷染料均質(zhì)機,色漿研磨均質(zhì)機,漿料研磨均質(zhì)機,色漿研磨機,高剪切研磨均質(zhì)機此機器采用了二級處理結(jié)構(gòu),*級采用了高剪切研磨均質(zhì)機的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了國ji先jin水平。

     膠卷染料均質(zhì)機SGN(上海)公司2013研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
                

 電影院膠卷染料均質(zhì)機GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度,中等精度,細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出z終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨均質(zhì)機選型表

 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

 

類型

l/h

rpm

m/s

kW

  

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

 

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

 

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

 

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

 

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

 

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

 

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到z大允許量的10%。

 

 (詳情及價格,劉經(jīng)理-1-3-6-8-1-6-7-9-7-4-0,公司有樣機可實驗!)

色漿 SGN研磨均質(zhì)機有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

色漿研磨均質(zhì)機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到z低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

 

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